原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析  

Thickness Determination of Thin-film Samples Used in Atomic Innner-Shell Ionization Measurement by Rutherford Backscattering Spectrometry

作　　者：段艳敏[1] 吴英[1] 唐昶环[2] 刘东剑[1] 丁庆平[3] 刘慢天[1] 安竹[1] 

机构地区：[1]四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 [2]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900 [3]电子科技大学,成都610000

出　　处：《四川大学学报（自然科学版）》2004年第6期1221-1224,共4页Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)

基　　金：国家自然科学基金委员会与中国工程物理研究院联合基金(10276029);高等学校博士学科点专项科研基金(20020610019)

摘　　要：作者使用241Amα标准源与卢瑟福背散射相结合的方法,对四川大学原子核科学技术研究所的2.5MeV静电加速器进行了能量刻度,并利用卢瑟福背散射方法测量了一系列Al衬底金属薄靶的厚度,所测结果与称重法进行了比较.作者将卢瑟福背散射方法所测厚度值运用到电子碰撞引起原子内壳层电离截面的测量工作中,取得了满意的结果.The 2.5MeV electrostatic accelerator in Institute of Nuclear Science and Technology of Sichuan University is calibrated with the ()^(241)Am α standard radioactive source and Rutherford backscattering spectrometry. The thickness values of some thin-film samples deposited on Al substrates are measured by Rutherford backscattering spectrometry and are compared with the corresponding results measured by weighing. Finally, the thickness values of these thin-film samples measured by Rutherford backscattering spectrometry are used to determine the cross-sections for inner-shell ionization of atoms by electron impact. Satisfactory results are obtained.

关 键 词：卢瑟福背散射(RBS) 能量刻度 电子碰撞 原子内壳层电离截面 

分 类 号：O562.4[理学—原子与分子物理]