铁氧体基片的工艺控制研究  

作　　者：周平章[1] 秦勋[1] 胡乔[1] 谯劼[1] 

机构地区：[1]西南应用磁学研究所,绵阳621000

出　　处：《国际电子变压器》2004年第12期127-129,共3页

摘　　要：电子系统向小型化、高性能化、多功能化发展已是目前的主要趋势，从而对基片的要求越来越高，使用也越来越广泛。

关 键 词：铁氧体基片 浆料 工艺控制 分散效应 理化检验 

分 类 号：TM277[一般工业技术—材料科学与工程]