一台400keV离子注入机的光路设计  

ION OPTICS DESIGN OF A 400 keV ION IMPLANTER

作　　者：王克明[1] 刘清前[1] 张乃健[1] 陈鄂生[1] 张永恩 

机构地区：[1]山东大学物理系

出　　处：《山东大学学报（自然科学版）》1989年第1期49-56,共8页Journal of Shandong University(Natural Science Edition)

摘　　要：本文给出了一台400keV离子注入机的物理设计总体方案。根据设计指标,详细计算了该机主要部件的参数。经调试,各项指标达到设计要求。An overview of physical design for 400 keV ion implanter is given According to specifications, parameters of components of ion implanter are calculated. After ajustment, the good agreements between theoretical and experimental values are found. It shows that the ion optics design is reseanable.

关 键 词：离子注入机 光路设计 后加速方法 

分 类 号：TL503.3[核科学技术—核技术及应用]