交流等离子体显示屏障壁技术的进展  

The Technical Progress on the Barrier Rib of the AC PDP

作　　者：周子正 

机构地区：[1]河南安彩集团有限公司,河南安阳455000

出　　处：《真空电子技术》2003年第6期45-49,共5页Vacuum Electronics

摘　　要：障壁是交流等离子显示屏关键结构部分,障壁结构和制作的优劣,直接影响交流等离子显示屏光电性能。本文就交流等离子显示屏障壁制造技术,如丝网漏印法、喷砂法、感光浆料法、光刻胶埋入法等进行了介绍。Barrier rib is the critical component of the AC PDP. The structure of the barrier rib and its manufacture level can directly influence the optical-electric features of the AC PDP. Some manufacture technologies of barrier rib on AC PDP, like screening print, sand blasting, photo paste, photo etching embedment have been introduced in this article.

关 键 词：等离子体显示 障壁 

分 类 号：TN873[电子电信—信息与通信工程]