改善孔壁粗糙度  被引量:2

The Improvement of Roughness of Hole-wall

在线阅读下载全文

作  者:杜晓平 张春生 殳伟 

机构地区:[1]上海美维电子有限公司,201600

出  处:《印制电路信息》2003年第2期39-43,49,共6页Printed Circuit Information

摘  要:1项目简介 孔粗是钻孔工序的重要控制项目,目前业内标准基本上定在<38μm,我司目前的内部过程监控的标准是<38μm,由于客户对电气性能要求的提高,一以及尖端产品安全性能的要求,使得客户对样板孔粗的要求不断提高,例如OPC定单中许多高层背板的孔壁质量的要求<25μm,在这样的情势下,我们必须在现有的工艺和控制方法的基础上做优化,以实现有能力稳定控制粗<25μm的目标.示意图见图1.

关 键 词:孔壁 粗糙度 钻孔工序 工艺技术 控制方法 钻头 

分 类 号:TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象