一种用于淀积铁磁膜的新型磁控靶研究  

Study on a New Magnetron Target for Use in Depositting Iron-Magnetic Films

作　　者：张怀武[1] 刘颖力[1] 

机构地区：[1]电子科技大学信材学院303室,成都市610054

出　　处：《真空》1993年第6期49-52,共4页Vacuum

摘　　要：本文给出了一种新型铁磁靶设计方法，并用设计的 ＤＣ磁控靶成功地制备出了用于碰头的 ＦｅＳｉＡｌ合金薄膜，性能分析表明用该靶制备的膜可满足 ＭＩＧ磁头的指标。A new magnetron target have presented in this paper. Using the target,we have sucessfully deposited the Fe-Si-Al alloy thin film.And the properties of the film have been measured,which prove the material can be used in MIG magnetic heads.

关 键 词：磁控靶 黑色金属合金 铁磁膜 磁头 

分 类 号：TQ587.5[化学工程—精细化工]