掺氯扩散工艺在硅整流二极管上的应用  

作　　者：刘庆 

机构地区：[1]江苏如皋无线电厂

出　　处：《半导体技术》1994年第1期58-58,共1页Semiconductor Technology

摘　　要：掺氯扩散工艺在硅整流二极管上的应用为了提高硅整流二极管的性能及可靠性，我们在硅整流二极管的制造过程中，试采用了掺氯扩散工艺，达到了相当满意的效果。１试验我们在试验过程中，采用了浓盐酸与浓硫酸作用所产生的氯化氢（ＨＣｌ）气体作氯源，用氮气作携带气体，在...

关 键 词：硅整流二级管 掺氯 扩散 硅二极管 

分 类 号：TN313.3[电子电信—物理电子学]