检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]天津大学应用化学系
出 处:《电镀与涂饰》1994年第2期18-22,共5页Electroplating & Finishing
摘 要:研究了脉冲参数对电沉积Ni-Co合金镀层的钴含量与硬度的影响。确定了最佳的脉冲参数。应用X射线和扫描电镜分析了Ni-CO合金镀层的结构和形貌。比较了脉冲电流(PC)和直流电流(DC)电镀Ni-Co合金镀层的各种性能。Current parameters for pulse plating of Ni-Co alloy were optimized through investigation of their effects on the hardness of and the cobalt content in the obtained deposit. Morphology of the deposits wasexamined by X-ray diffraction and SEM. Comparison of properties was made between the Ni-Co deposits obtained from pulse plating bath andthose from traditional direct current plating bath.
分 类 号:TQ153.18[化学工程—电化学工业]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.117