检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]昆明物理研究所
出 处:《红外技术》1994年第2期9-11,共3页Infrared Technology
摘 要:重点讨论x值在0.27附近的MCT光导器件芯片电阻率随时间变化的问题。认为:MCT芯片中Hg原子的逐渐逸出,导致材料x值随时间而变化是使芯片室温电阻率变化的主要原因;在某些条件下(如加温),芯片表面可以形成高浓度的n型薄层,从而对芯片的室温电阻率产生影响。Changes of MCT Wafer restivity with time have ho observed at room temperature. The cause is consided to be the gradual evaporation of Hg. As a result,composistion of the MCT material changes and a thin n-type layer may formed on the surface. When heatal or in some condihons, electron Concentrations of the n-type layer may be high, and the restivity of the whole wafer can be affected accordingly.
分 类 号:TN215[电子电信—物理电子学]
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