金刚石（Ⅲ）面与甲基的相互作用势与基底模型的关系  

SUBSTRATE MODEL AND INTERACTING POTENTIAL OF METHYL WITH DIAMOND(Ⅲ)SURFACE

作　　者：刘波[1] 李延欣[1] 钱兴中[1] 潘守甫[1] 

机构地区：[1]吉林大学原子与分子物理研究所

出　　处：《计算物理》1994年第4期425-428,共4页Chinese Journal of Computational Physics

摘　　要：利用Ａｍ１半经验分子轨道方法研究了金刚石（Ⅲ）清洁、附氢表面的不同模型与甲基的相互作用势的差别，从中发现各种近似因素对势曲线的影响，进而为用分子簇模型模拟表面，研究金刚石薄膜生长的动力学机制以及更广泛的吸附问题，提供了一种依据．结果表明，基底表层原子的重新定位和表两层原子的驰豫模型较真实地反映了表面的状态．但考虑到计算费用，后者更省时．The potential energy curves between methyl and diamond (Ⅲ) surface are calculated by Aml send-empirical molecular orbital method, which are found to be in closeagreement with the substrate models. It provides much information for studying the dynamic processes of the nucleation and growth of diamond films,and more general adsorption as well.

关 键 词：基底模型 甲基 金刚石(III)面 相互使用势 

分 类 号：O613.71[理学—无机化学] O484.1[理学—化学]