聚甲基丙烯酸甲酯单层LB膜微结构的原子力显微镜观测  

作　　者：杨晓敏[1] 顾宁[1] 鲁武 陆祖宏[1] 韦钰[1] 

机构地区：[1]东南大学国家教委分子与生物分子电子学开放实验室,南京210018

出　　处：《科学通报》1994年第7期653-655,共3页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：聚甲基丙烯酸甲酯(polymethy(methacrylate),PMMA)作为电子束刻蚀中抗蚀层材料,由于其灵敏度低而分辨率高在亚微米以至纳米刻蚀中获得了大量应用.但目前通常所用旋涂、喷涂等方法得到的抗蚀层在数十纳米厚度下存在均匀性差、多孔洞等缺陷,为此,Pease等人提出采用Langmuir-blodgett(LB)技术制备的抗蚀层可有效地解决这些问题.然而。

关 键 词：LB膜 PMMA AFM 微观结构 

分 类 号：O632.52[理学—高分子化学]