脉冲激光沉积大面积高温超导氧化物薄膜  

作　　者：许世发[1] 田永君[1] 吕惠宾[1] 崔大复[1] 陈正豪[1] 周岳亮[1] 李林[1] 杨国桢[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所,北京100080

出　　处：《科学通报》1994年第14期1280-1282,共3页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家超导研究和发展开发中心基金资助项目

摘　　要：高温超导体在各领域的应用越来越受到人们的重视,特别是在微电子学、微波器件和磁测量等方面比如延迟线、滤波器、超导天线、超导量子干涉仪(SQUID)已进入实用化阶段.制作这些器件不仅要求超导体为大面积的薄膜,而且要求膜的厚度以及超导特性(零电阻温度,临界电流密度,表面电阻等)具有很好的均匀性.虽然目前制备高T_c氧化物薄膜的方法很多,脉冲激光沉积(pulsed laser deposition)、磁控溅射(magnetron-spuffering)。

关 键 词：激光沉积 薄膜 氧化物 超导体 高TC 

分 类 号：TM262[一般工业技术—材料科学与工程]