横向Ising铁磁性薄膜的临界行为  

CRITICAL BEHAVIOR OF FERROMAGNETIC THIN FILM IN A TRANSVERSE ISING MODEL

作　　者：吴祖嵋 杨传章[1] 李振亚[1] 

机构地区：[1]苏州大学物理系

出　　处：《苏州大学学报（自然科学版）》1989年第1期60-64,共5页Journal of Soochow University(Natural Science Edition)

基　　金：国家自然科学资金

摘　　要：本文采用相关有效场理论和横向Isjng 横型,讨论了简立方结构铁磁性薄膜的临界温度的厚度效应及其与横场的关系,以及横场临界值与薄膜厚度的关系.An correlation effective-field treatment is presented for thesimple cubic ferromagnetic film in a transverse Ising model.The transversefield dependence of the critical temperature and thickness dependence ofcritical transverse field are investigated.

关 键 词：有效场理论 横向伊辛模型 临界行为 

分 类 号：O484.43[理学—固体物理]