棉布置印花型纳夫妥／活性同浴染地培司／活性共同印花工艺  

作　　者：杨光明 

出　　处：《陕西纺织》1994年第1期33-34,39,共3页

关 键 词：棉织物 罩印花型 培司/活性染料 同浴染地 印花 

分 类 号：TS194.641[轻工技术与工程—纺织化学与染整工程]