H_2O-TEOS等离子CVD技术  

作　　者：谷村雄二 缘奋 

出　　处：《微电子技术》1994年第4期34-43,共10页Microelectronic Technology

关 键 词：LSI 集成电路 布线 化学汽相沉积 等离子体 

分 类 号：TN470.597[电子电信—微电子学与固体电子学]