利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅  

Polymer Gratings with Low Surface Relief Based on UV Photo-Polymerization

作　　者：周进波[1] 孙长征[1] 熊兵[1] 王健[1] 罗毅[1] 

机构地区：[1]清华大学集成光电子学国家重点实验室,北京100084

出　　处：《Journal of Semiconductors》2005年第2期363-367,共5页半导体学报（英文版）

基　　金：国家自然科学基金(批准号:60244001和60290084);国家高技术研究发展计划(批准号:2001AA313130和2001AA312190);国家重点基础研究发展规划(批准号:TG2000036601)资助项目~~

摘　　要：提出利用紫外光聚合反应来制作聚合物光栅的方法 .实验发现 ,光栅的表面起伏深度很小 ,约为 12 4～0 7nm ;折射率调制较大 ,达到 0 0 10左右 .这种方法在低阶分布反馈聚合物激光器的制作中具有很好的应用前景 .Polymer gratings are fabricated based on photopolymerization.A very low surface relief depth ranging from 12 4 to about 0 7nm has been demonstrated with a refractive index modulation of about 0 010.Such polymer gratings show promising potentials for the fabrication of low-order distributed feedback polymer lasers.

关 键 词：光聚合反应 聚合物光栅 分布反馈 聚合物激光器 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学]