日光温室黄瓜秋冬茬高产栽培适宜密度的研究  

作　　者：艾民[1] 何莉莉[1] 陈晓磊[1] 

机构地区：[1]沈阳农业大学园艺学院,110161

出　　处：《农村实用工程技术（温室园艺）》2005年第2期18-21,共4页Applied Engineering Technology in Rural Areas

摘　　要：该试验通过4个密度处理,探讨了提高北方保护地秋冬茬黄瓜产量的适宜栽培密度。结果表明,随着种植密度的减小,植株所受的光照度及地温逐渐升高;茎粗逐渐增加,节数,叶面积指数(LAI)和株高逐渐减小,根系活力呈上升趋势;功能叶片净光合速率及各层次叶片净光合速率逐渐增加;产量也逐渐增加。经过秋冬季节,历时4个月的栽培,其中株距为35cm,大行距为70cm,小行距为60cm,密度为每hm24.43万株,产量提高(为3075Kg/667m2);该密度条件下,植株的环境指标、生长发育指标、光合指标、品质指标和产量都表现出较高的水平。

关 键 词：秋冬茬 黄瓜 适宜密度 日光温室 植株 高产栽培 产量 增加 环境指标 表现 

分 类 号：S642.2[农业科学—蔬菜学] S562[农业科学—园艺学]