水的净化消毒装置及其控制方法Heshiki，Isamu等（Mitsubishi　Electric　Corp．，Japan）日本公开特许公报JP　2002　96，081　2002，4，210页（日文）  

出　　处：《水处理信息报导》2005年第1期50-50,共1页

摘　　要：该装置包括一臭氧处理设备、用ClO2和／或氯化溴消毒的设备、去除水中残余臭氧的设备、处理条件控制设备。臭氧浓度控制在0．2～10mg·min／L，ClO2浓度控制在0．2-2mg／L。

关 键 词：日本公开特许 氯化溴 除水 CLO2 净化 去除 浓度控制 消毒装置 公报 臭氧处理 

分 类 号：X703[环境科学与工程—环境工程] TQ433[化学工程]