Unit-Cell by Unit-Cell Homoepitaxial Growth Using Atomically Flat SrTiO3（001） Substrates and Pulsed Laser Deposition  

作　　者：费义艳 王旭 吕惠宾 杨国桢 朱湘东 

机构地区：[1]BeijingNationalLaboratoryforCondensedMatterPhysics,InstituteofPhysics,ChineseAcademyofSciences,Beijing100080 [2]BeijingNationalLaboratoryforCondensedMatterPhysics,InstituteofPhysics,ChineseAcademyofSciences,Beijing100080//DepartmentofPhysics,UniversityofCaliforniaatDavis,Davis,CA95616,USA

出　　处：《Chinese Physics Letters》2005年第4期1002-1005,共4页中国物理快报（英文版）

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]