内氧化法制备表面弥散强化铜合金的组织与性能  

Microstructures and properties of surficial dispersion - strengthening copper alloy produced by internal oxidation

作　　者：李红霞[1] 田保红[1] 宋克兴[1] 刘平[1] 

机构地区：[1]河南科技大学材料科学与工程学院,河南洛阳471039

出　　处：《兵器材料科学与工程》2005年第2期44-47,共4页Ordnance Material Science and Engineering

基　　金：河南省自然科学基金资助(资助号0122021300)

摘　　要：以Cu_2O为氧化剂,在氩气保护下对不同w(Al)的Cu-Al合金表面进行弥散强化(内氧化温度为1123-1273K,保温时间10-96h),并对内氧化层的组织形貌进行了研究。结果表明,w(Al)的多少直接影响内氧化层的厚度、组织形貌及硬度和导电率,Cu-Al合金的内氧化动力学曲线呈抛物线变化规律。With Cu_20 as oxidizer, Al_2O_3 surficial dispersion strengthened copper alloy of various concentration of aluminum were produced by internal oxidation in argon atmosphere(1123-1273 K, 10 - 96 h). Behavior of internal layer was investigated; the results suggested that the depth, the morphology, the hardness and the electrical conductivity of the internal layer are affected by the aluminum concentration directly. The dynamics of the internal oxidation in Cu - Al alloys takes on a parabola regular pattern.

关 键 词：内氧化 组织与性能 组织形貌 AL合金 弥散强化铜合金 表面 氩气保护 制备 导电率 保温时间 

分 类 号：TG146[一般工业技术—材料科学与工程] TB331[金属学及工艺—金属材料]