XeBr　XeCl激光同时振荡的研究  

Study of the Dual Oscillation of XeBr and XeCl Laser

作　　者：熊旭明 聂劲松[1] 马树森 张兆平 王广昌 秦玉英 

机构地区：[1]中国科学院安徽光机所

出　　处：《中国激光》1994年第4期253-256,共4页Chinese Journal of Lasers

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文报道了由ＨＣｌ／ＨＢｒ／Ｘｅ／Ｎｅ体系获得的ＸｅＢｒ与ＸｅＣｌ两种激光（２８２ｎｍ，３０８ｎｍ）同时振荡。对同时振荡的过程作了初步的分析，并在单独振荡的情况下研究了ＨＣｌ对ＸｅＢｒ激光能量及寿命的影响与ＨＢｒ对ＸｅＣｌ激光能量及寿命的影响。A bi-wavelength laser oscillation at 282 nm and 308 nm in a mixture of HCl/HBr/Xe/Ne is reported. The process of the dual oscillation have been analyzied. A investigation is also made about the density influence on HCl on the energy and lifetime of XeBr laseras well as HBr on XeCl laser's.

关 键 词：同时振荡 激光器 溴化氙 氯化氙 

分 类 号：TN241[电子电信—物理电子学]