Oxygen Pressure Dependence of Properties of Epitaxial LaAlO3 Films Grown on Si （100）  

作　　者：相文峰 吕惠宾 陈正豪 何萌 周岳亮 

机构地区：[1]BeijingNationalLaboratoryforCondensedMatterPhysics,InstituteofPhysics,ChineseAcademyofSciences,Beijing100080

出　　处：《Chinese Physics Letters》2005年第6期1515-1517,共3页中国物理快报（英文版）

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]