检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]西安交通大学电气工程学院,陕西西安710049
出 处:《高压电器》2005年第3期173-175,共3页High Voltage Apparatus
摘 要:应用有限元法对空心、半铁心、半封闭铁心、全封闭铁心4种结构的箔式电抗器涡流场进行了仿真分析,分别计算出了磁场分布和铜箔片中的电流密度分布及交流损耗,找出了造成挤流效应的因素和减小损耗的途径,在计算分析的基础上,提出了一种低功耗箔式电抗器的新型结构。The eddy current fields of four kinds of foil-wound reactors with different type cores are analyzed by FEM. The magnetic field distribution and current density in the foils and losses in the windings are calculated. The cause of skin-effect has been founded. Based on the calculation, a method for reducing winding loss and a new type of reactor is proposed.
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