激光熔覆制备含SiC纳米晶须结构涂层的研究  被引量:1

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作  者:陆英艳[1] 赵剑峰[1] 黄因慧[1] 

机构地区:[1]南京航空航天大学机电学院,南京210016

出  处:《材料导报》2004年第F10期36-38,共3页Materials Reports

摘  要:SiC陶瓷材料有着优良的物理力学性能,因而对该材料的研究一直受到人们的关注。分别对SiC纳米颗粒、SiC纳米晶须、SiC纳米涂层的研究现状进行了介绍;对激光熔覆制备含SiC纳米晶须的结构涂层进行了研究,制备出了具有内部富含网状SiC纳米晶须而表面高度致密的SiC纳米结构涂层;从激光与材料相互作用的角度对该涂层组织形貌形成机制进行了分析。

关 键 词:SiC纳米晶须 激光熔覆 制备 物理力学性能 纳米结构涂层 陶瓷材料 纳米颗粒 研究现状 纳米涂层 表面高度 形成机制 组织形貌 相互作用 

分 类 号:TB383[一般工业技术—材料科学与工程] TG156.99[金属学及工艺—热处理]

 

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