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作 者:金祥林[1] 蔡小海[1] 葛志红[1] 谢有畅[1] 唐有祺[1] 赵雅琴[2] 陆坤权[2]
机构地区:[1]北京大学结构化学开放研究实验室 [2]中国科学院物理研究所
出 处:《物理化学学报》1989年第2期206-209,共4页Acta Physico-Chimica Sinica
摘 要:本文使用EXAFS方法研究NiO在γ-Al_2O_3的表面上的分散情况。文章讨论了Ni含量为7%、13%、18%、26%、35%的NiO/γ-Al_2O_3体系的径向结构函数图以及Ni含量为13%、26%的NiO/α-Al_2O_3样品的径向结构函数图,认为NiO能在γ-Al_2O_3表面上成单层分散。分散后的Ni-O距离接近NiO晶体的Ni-O距离,表明Ni离子和γ-Al_2O_3表面上的氧有很强的相互作用。EXAFS spectroscopy has been used to investigate the dispersion of NiO onto the surface of γ-Al_2O_3. The comparison of the Fourier transformed EXAFS modulations of 7, 13, 18, 26, 35 wt% Ni/γ-Al_2O_3 and 13, 26 wt% Ni/α-Al_2O_3 suggests that NiO can disperse as a monolayer onto the surface of -γAl_2O_3. The Ni—O coordination distance which is near the Ni—O distance in NiO crystal suggests that the Ni ion interacts strongly with the oxygen on the γ-Al_2O_3 surface.
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