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作 者:娄广辉[1] 何峰[1] 钮峰[1] 胡王凯[1] 李锦[1]
机构地区:[1]武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉430070
出 处:《武汉理工大学学报》2005年第5期30-32,93,共4页Journal of Wuhan University of Technology
基 金:国家自然科学基金 (5 0 2 72 0 4 3);湖北省自然科学基金 (2 0 0 2AB0 77) .
摘 要:采用差热分析(DTA) ,X衍射分析(XRD) ,扫描电镜分析(SEM )等分析手段研究热处理制度对锂铝硼硅微晶玻璃热膨胀系数的影响,并主要通过正交试验分析热处理过程中各因素对热膨胀系数的影响。得到影响因素的主次顺序为:晶化温度>核化时间>核化温度>晶化时间,并得出较好的热处理工艺条件:核化温度72 0℃、核化时间90min、晶化温度810℃、晶化时间16 0min ,为该晶系微晶玻璃的研究提供有益的参考。Combined by differential thermal analysis (DTA),X-ray diffraction (XRD),scann ing electron microscopy (SEM) and coefficients of linear expansion measuremen t, the influence of heat treatment system on thermal expansion coefficient of Li 2O-Al 2O 3-B 2O 3-SiO 2 system glass-ceramics was investigated. The b etter heat treatment system was achieved by the cross experiment analysis to eac h factor of the heat treatment temperature. This paper is a helpful resource for studying the system glass-ceramics.
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