平行板阴极金属电沉积过程枝晶二维生长的计算机模拟  

Computer Simulation of Two-Dimensional Dendritic Crystal Growth in Metal Electrodepositing with Parallel Plate as Cathode

作　　者：张皓东[1] 谢刚[2] 李荣兴[2] 陈书荣[2] 

机构地区：[1]昆明理工大学环境科学与工程学院,云南昆明650093 [2]昆明理工大学材料与冶金工程学院,云南昆明650093

出　　处：《昆明理工大学学报（理工版）》2005年第3期31-34,共4页Journal of Kunming University of Science and Technology(Natural Science Edition)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(项目编号:50074019).

摘　　要：将分形几何与电化学相结合,通过DLA模型,使用计算机对金属在以平行板电极作为阴极进行电沉积时生成沉积产物的枝晶生长形貌进行了模拟.对电沉积不同阶段的模拟结果表明:分形维数最初有一个快速增长区域,随着沉积粒子数的增多,趋向平稳;对不同的电沉积速度时的模拟结果表明:离子移动速度,对模拟结果的表观形貌影响不大,粒子移动速度的加快,分形维数呈微小上升的趋势.同时从分形维数的角度对这些图形之间存在的差异进行了说明.With the use of DLA model, a simulation of the dendritic crystal growth in the process of electrodeposition, which uses parallel plate electrode as cathode, is made through combining fractal geometry and electrochemisty. The simulation of different stages shows that fractal dimension grows rapidly at first and then stably with the increase of deposit particles. The simulation of speed indicates that fractal dimension enhances when migration of particles speeds up. The differences of these charts are also illuminated from fractal dimension.

关 键 词：平行板阴极 电沉积 枝晶 计算机模拟 分形维数 

分 类 号：TG111[金属学及工艺—物理冶金]