FeI和CuI中性激发谱的研究  

作　　者：王友德[1] 杨治虎[1] 马新文[1] 徐谦[1] 刘惠萍[1] 赵孟春[1] 

机构地区：[1]中国科学院近代物理研究所,兰州730000

出　　处：《中国科学（A辑）》1994年第5期513-518,共6页Science in China(Series A)

基　　金：国家自然科学基金;中国原子分子数据研究联合体资助项目

摘　　要：利用束箔技术研究能量为110keV的Fe^+和Cu^+离子分别与厚度为8.5μg/cm^2的碳箔相互作用激发放出的光,这些光经鉴定主要来自中性原子Fel和Cul的激发,测量顺着箔后的光衰变曲线,得到7条Fel和3条CuI的能级寿命,在箔的制备、束流密度的调节等方面做了一系列工作,故在低能重离子轰击下,使箔的使用寿命延长到30min以上。

关 键 词：束箔技术 激发光谱 铁离子 铜离子 

分 类 号：O562.3[理学—原子与分子物理]