络合均相法生产H_2WO_4的除硅条件对其沉淀率的影响  

作　　者：蒋安仁[1] 倪哲明[1] 宫可印 庞震[1] 

机构地区：[1]复旦大学

出　　处：《稀有金属》1989年第1期1-4,共4页Chinese Journal of Rare Metals

摘　　要：络合均相法可在室温和低酸度下生产 H_2WO_4。在 pH=9.4的正常情况下除硅,H_2WO_4的沉淀率可大于98%。如按传统工艺在 pH=8～9除硅,沉淀率仅85%左右。经研究发现,在 pH=8～9时,溶液中部分 Na_2WO_4形成仲钨酸 A,仲钨酸 A 在加热和 H_2SiO_3的催化作用下转变成不能用络合均相法沉淀 H_2WO_4的仲钨酸 B,从而使 H_2WO_4沉淀率明显下降。因此,选择较高的pH 除硅是获得高的 H_2WO_4沉淀率的一个重要条件。

关 键 词：H2WO4 络合均相法 除硅 沉淀率 

分 类 号：TQ136.13[化学工程—无机化工]