Study of effect of H2 addition on the production of fluorocarbon radicals in H2／C4F8 inductively coupled plasma via optical emission spectroscopy actinometry  

作　　者：黄松 辛煜 宁兆元 

机构地区：[1]DepartmentofPhysics,SuzhouUniversity,Suzhou215006,China

出　　处：《Chinese Physics B》2005年第8期1608-1612,共5页中国物理B（英文版）

分 类 号：O53[理学—等离子体物理]