溅射铁膜的结构和磁性能  

作　　者：肖春涛[1] 赵俊慧[1] 杨正[1] 

机构地区：[1]兰州大学磁性材料研究所

出　　处：《磁性材料及器件》1995年第4期53-56,共4页Journal of Magnetic Materials and Devices

摘　　要：简要回顾了磁头用薄膜材料的晚近发展。用射频溅射法制备了软磁性纯铁膜并考察了溅射条件和真空退火对铁膜微结构和磁性能的影响。所有铁膜都是（１１０）取向的。随着阳极电压ＶＡ的增大，晶格形变量减小，矫顽力Ｈｃ下降。ＶＡ在３．４～３．８ｋＶ范围内时Ｈｃ≤３１０Ａ／ｍ，饱和磁化强度Ｍｓ约１７２０ｋＡ／ｍ，略高于纯铁的块体值（１７００ｋＡ／ｍ）。退火过程中晶粒长大使软磁性能恶化，高温区因工扩散效应导致Ｍｓ下降。

关 键 词：溅射铁膜 微结构 软磁性能 软磁材料 

分 类 号：TM271.201[一般工业技术—材料科学与工程] TN305.92[电气工程—电工理论与新技术]