TaN膜的结构、成分及性能  

Structure,composition and properties of TaN thin films

作　　者：张庆瑜[1] 陈斌[1] 王敏[1] 朱英臣 陈 遐 

机构地区：[1]三束材料改性国家重点实验室大连理工大学分部

出　　处：《大连理工大学学报》1995年第4期482-486,共5页Journal of Dalian University of Technology

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：研究了三极溅射法制备的ＴａＮ膜的结构、成分及其性能。实验发现：随着氮分压的增加，ＴａＮ膜的结构将从面心立方相转变为六方相；ＴａＮ膜的显微硬度在单一相结构时最大，而以双相共存时的显微硬度较低。The structure,composition and properties of TaN films deposited by a triode-sputtering ion plate are investigated.A phase transition from fcc TaN to hexagonal TaN with anincrease in the nitrogen partial pressure is observed.The microhardness of TaN film with singlephase is higher than that with fcc and hexagonal phases coexisting.

关 键 词：沉积 结构分析 性能 氮化钽 薄膜 

分 类 号：O174.442[理学—数学]