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机构地区:[1]郑州大学化学系
出 处:《分析试验室》1995年第4期13-17,共5页Chinese Journal of Analysis Laboratory
摘 要:本文用Nafion修饰金盘电极,在0.04mol/LLiClfopH2的H_(2)SO_4底液中,阳极溶出伏安法测定痕量碲,研究了富集溶出过程的特性和优化条件,碲浓度在0.2~15ng/mL范围内与溶出峰电流呈良好的线性关系(富集时间为2min)。本法灵敏度高,选择性好,用于测定小麦粉和玉米粉中痕量碲,测定标准偏差小于0.097μg/g,与ICP测定结果比较其相对误差小于16%。The anodic stripping voltammetry forthe determination of trace tellurium byNafion modified gold electrode is described.In a base solution of 0.04mol/L LiCl adjust-ed to pH2.0 with H_(2)SO_4,a preconcentrationpotential of-0.2 and scan rate of 250mV/sfrom-0.2V to + 0.9V are chosen for use.Under optimum conditions the strippingpeak current at+0. 65V (vs. Ag/AgCl ) islinearly proportional to the concentration oftellurium(Ⅳ)in the range of 0.2~15μg/mL ( pre-electrolysis time is 2 min ).Themethod exhibits high sensitivity and selectiv-ity ,it has been applied to the determinationoftellurium in wheat and maize with satis-factory results. The standard deviation isless than 0. 097μg/g and the relative error isnot more than 16%.
关 键 词:NAFION修饰电极 伏安法 碲 小麦粉 玉米粉
分 类 号:TS210.7[轻工技术与工程—粮食、油脂及植物蛋白工程] O613.53[轻工技术与工程—食品科学与工程]
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