C_（60）薄膜的准分子激光刻蚀及形貌分析  

Excimer Ultraviolet Laser Ablation of C_(60) Films and Its Morphology Analysis

作　　者：谢燕燕 吴正亮[1] 宁东[1] 楼祺洪[1] 李缙[1] 曹基文 

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海机械工业部材料研究所

出　　处：《光学学报》1995年第9期1254-1257,共4页Acta Optica Sinica

基　　金：上海市科委科学基金

摘　　要：报道了准分子ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）紫外激光刻蚀Ｃ６０膜的实验研究及对刻蚀薄膜的形貌分析。基于形貌分析的结果提出其刻蚀机理。In this paper, experimental study on excimer XeCl (308 nm) ultraviolet laser ablation of C60 films and their morphology analysis are reported. A possible mechanism is presented on the basis of the morphology analysis.

关 键 词：富勒烯 薄膜 激光刻蚀 碳60 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]