电子束处理前后C—SiC涂层的微观分析  

Microanalysis of C-SiC coatings before and after electron beam treatment

作　　者：张海龙[1] 汪德志[1] 黄宁康[1] 

机构地区：[1]四川大学原子核科学技术研究所

出　　处：《核技术》1995年第6期343-347,共5页Nuclear Techniques

摘　　要：在不锈钢材料表面，用射频磁控溅射沉积Ｃ—ＳｉＣ，利用ＸＲＤ、ＸＰＳ对电子束处理前后的Ｃ—ＳｉＣ涂层进行了微观分析．The r.f.magnetyon spattering deposited C-SiC coatings on stainless steel surface are microanalysed by XRD and XPS before and after electron beam treatment,and the results are disscussed.

关 键 词：第一壁材料 电子束处理 微观分析 碳化硅涂层 

分 类 号：TL627[核科学技术—核技术及应用]