光电码盘式位移控制器的设计缺陷及其改进方法  

作　　者：张道忠[1] 付革红[1] 刘仲芳 

机构地区：[1]安阳钢铁公司

出　　处：《河南冶金》1995年第3期50-51,17,共3页Henan Metallurgy

摘　　要：本文分析了光电码盘式位移控制器的设计缺陷及造成该缺陷的原因,并指出了改进方法及试制的样机在高炉探尺系统上的测试情况及结果分析。

关 键 词：位移 控制器 设计 缺陷 光电码盘 

分 类 号：TP332.3[自动化与计算机技术—计算机系统结构]