Modified Holographic Exposure to Fabricate Varied Bragg Grating in an Identical Chip  

同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法(英文)

作　　者：谢红云[1] 周帆[1] 王宝军[1] 杨华[1] 朱洪亮[1] 赵玲娟[1] 王圩[1] 

机构地区：[1]中国科学院半导体研究所,北京100083

出　　处：《Journal of Semiconductors》2005年第7期1287-1290,共4页半导体学报（英文版）

基　　金：国家重点基础研究发展计划(批准号:G200006831);国家自然科学基金(批准号:90401025);国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA312150)资助项目~~

摘　　要：A new fabricating method is demonstrated to realize two different Bragg gratings in an identical chip using traditional holographic exposure. Polyimide is used to protect one Bragg grating during the first period. The technical process of this method is as simple as that of standard holographic exposure.提出了一种采用传统光学全息曝光技术,在同一芯片上制作不同周期的布拉格光栅的新方法.在这个简单实用的方法中,聚酰亚胺用来保护第一次做好的某一周期的光栅.这种新方法制作工艺简单,成本低,且与传统的半导体工艺兼容.

关 键 词：holographic grating DFB laser MULTI-WAVELENGTH CWDM 

分 类 号：TN25[电子电信—物理电子学]