几种石墨层间化合物溶出伏安行为的研究  

作　　者：陈剑平 陈宗璋 

出　　处：《上海硅酸盐》1995年第4期262-266,共5页

摘　　要：本文首次将突出伏安法用于研究Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３；Ｈ２ＳＯ４＋ＫＭｎＯ４；Ｈ２ＳＯ４＋ＨＮＯ３＋ＦｅＣｌ３＋ＫＭｎＯ４等反应介质中制取石墨层间化合物时的溶出伏安行为，发现化学法合成的ＧＩＣ与电化学法合成的ＧＩＣ溶出伏安说线图在反应时间短时相似，随着反应时间增长溶出伏安谱线图则有较大的差异等实验现象。

关 键 词：石墨 层间化合物 溶出伏安 伏安法 

分 类 号：O657.14[理学—分析化学] TQ165[理学—化学]