多晶薄膜及表面层的XRD分析方法讨论  

XRD ANALYSIS METHOD FOR POLYCRYSTALLINE THIN FILMS AND SURFACE LAYERS

作　　者：陶琨[1] 骆建[1] 徐育敏[2] 

机构地区：[1]清华大学材料科学研究所,北京100084 [2]清华大学生物科学与技术系,北京100084

出　　处：《真空科学与技术》1995年第5期326-334,共9页Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：对多晶薄膜XRD分析的基本问题小角度衍射几何、非对称平行光束法和Seemann－Bohlin法的衍射几何强度计算，以及P－B法、S－B法对常规XRD分析的适应性进行了分析讨论。并对多晶薄膜XRD分析的当前进展、难点及发展作了分析。提出两种薄膜及表面层表征参量沿深度方向变化的情况下进行XRD深度分布分析的新方法，该方法具有真实深度尺度和定量的特点，并可用于界面分析。The powder diffraction geometry of thin films, diffraction intensity of asymmetric parallel beam method and Seemann-Bohlin method are analyzed, The advances,applications and difficulties on powder diffraction of thin films are discussed. Two quantitative and non-destructive XRD methods are presented to do depth profile analysis for polycrystalline thin films and surface layers,in which the characteristic parameters vary continuously in depth direction.

关 键 词：薄膜 表层 X射线衍射谱 深度分布 

分 类 号：O484[理学—固体物理]