薄膜系统电子逸出功随温度变化规律研究  

Study of Temperature Effect on the Work Function of Electron of Membrane

作　　者：文国知[1] 郑瑞伦[1] 

机构地区：[1]西南师范大学物理学院,重庆400715

出　　处：《西南师范大学学报（自然科学版）》2005年第4期672-676,共5页Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition)

基　　金：重庆市科委资助项目(20036111)

摘　　要：导出了薄膜系统电子逸出功温度系数随温度和覆盖度变化的关系式.以铕Eu在钨W(100)面的吸附为例,讨论了温度对吸附系统逸出功变化规律的影响,结果表明逸出功随温度升高而增大,随覆盖度增大而增大.The temperature and overlay effect on the work function of electron of membrane is studied with the Anderson model. General variations of the thermal coefficient X and work function φ are given. And then variations of Eu membrane on W（100） surface are given in the case.

关 键 词：吸附系统 逸出功 温度系数 Eu膜 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]