T3铜的电子背散射衍射(EBSD)花样分析  被引量:1

Analysis of T3 copper pattern by electron back-scattering diffraction(EBSD)

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作  者:周善民[1] 陈同彩[1] 张武[1] 

机构地区:[1]南昌航空工业学院材料科学与工程学院,江西南昌330034

出  处:《电子显微学报》2005年第4期285-285,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词:电子背散射衍射 衍射花样 T3 紫铜 Crystal 晶体材料 显微特征 任意形状 矩形区域 

分 类 号:TM24[一般工业技术—材料科学与工程]

 

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