柠檬酸盐体系低温化学镀镍的研究  

Study on low temperature electroless nickel plating from citrate bath

作　　者：牛振江[1] 胡钟霆[2] 陈萍[2] 陈崇劣[2] 孙雅峰[1] 李则林[1] 

机构地区：[1]浙江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004 [2]浙江师范大学化学与生命科学学院,浙江金华321004

出　　处：《电镀与涂饰》2005年第9期9-11,共3页Electroplating & Finishing

基　　金：浙江省自然科学基金资助项目(Y404028)。

摘　　要：提出一种柠檬酸三铵体系的低温化学镀镍工艺.研究了该镀液的温度、pH及镀液组成对沉积速度的影响.得出适宜的工艺条件为:40 g/L硫酸镍、35 g/L次亚磷酸钠、30 g/L柠檬酸三铵,pH 9～9.5,θ为45 ℃.经扫描电子显微镜观察,镀层表面均匀平整;经X-射线衍射分析,镀层具有晶态结构.该工艺稳定,沉积速度可达4.5A technics of low temperature electroless nickel plating from citrate bath was proposed. The effects of temperature, pH and constitutes of the bath on deposition rate were investigated. The optimum process conditions obtained were 40 g/L NiSO4, 35 g/L NaH2PO2, 30 g/L （ NH4 ） 3C6H5O7 ,pH 9 ～ 9.5 and 45 ℃. The deposits are smooth and the crystal structure detected by SEM and XRD analysis. The process is stable, and the deposition rate can attain 4.5 mg/（cm^2·h）.

关 键 词：低温 化学镀镍 柠檬酸盐 沉积速度 

分 类 号：TQ153.1[化学工程—电化学工业]