激光对光学薄膜损伤的热冲击效应  

Thermal Shock Effect on Optical Films Damage Induced by High Power Laser

作　　者：龚辉[1] 李成富[1] 王明利[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海光机所

出　　处：《中国激光》1996年第3期245-248,共4页Chinese Journal of Lasers

摘　　要：计算了薄膜在高功率脉冲激光作用下截面温度场和应力场分布。分析了热冲击在光学薄膜激光损伤中的作用，并用调Ｑ１．０６μｍ脉冲激光对ＺｒＯ２单层膜损伤，讨论了不同激光强度下薄膜截面温度场与应力场分布，揭示了热冲击在ＺｒＯ２单层膜损伤中的机理和过程。The sectional temperature and stress diStribution of optical films under high power PUlse laser irradiation are calculated.Thermal shock effect was analyzed. Experiment of damage induced by a Q switched 1. 06 μm laser to a ZrO2 single film reveals the thermal shock damage process and mechanism.

关 键 词：光学薄膜 激光损伤 热冲击效应 

分 类 号：TB43[一般工业技术] O484.21[理学—固体物理]