等离子体增强器辅助的氢化W—C涂层  

作　　者：张正模 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1996年第5期5-6,共2页

关 键 词：等离子体增强器 涂层 钨碳涂层 离子轰击热处理 

分 类 号：TG156.8[金属学及工艺—热处理]