Se^75γ射线源的曝光时间计算和透照工艺分析  

作　　者：冯华平 

机构地区：[1]广州市锅炉压力容器监察检验所,广东510050

出　　处：《中国特种设备安全》2005年第B07期50-52,共3页China Special Equipment Safety

摘　　要：近年来研制成功的第二代Se^75γ射线源，从原来的单质硒改进成为热稳定性高、强度高的金属硒化物：射源形状从原来的圆柱形改进成为准球形，焦点尺寸比原来小23．5％，从而在几何不清晰度相同的情况下能使射源更接近被照工件，提高照射量率50％；它的半衰期是118d，是Ir^192的1．6倍；它的发射平均能量为206keV．接近X射线的能量水平，适宜透照5-40mm厚度的钢铁工件特别是锅炉受热面的小口径钢管工件．得到灵敏度和宽容度较高的透照影像。

关 键 词：Γ射线源 工艺分析 透照 时间计算 金属硒化物 曝光 钢铁工件 小口径钢管 锅炉受热面 

分 类 号：O613.52[理学—无机化学] P145.6[理学—化学]