利用强流聚焦离子束制作CoSi2微米结构  

作　　者：张正模 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1996年第4期6-7,共2页

关 键 词：聚焦 离子束 钴植入 硅片 微米级 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]