弹道电子发射显微镜的研制及对金属/半导体界面的探测  

The Development of BEEM and Its Application to Metal-semiconductor Interfaces

作　　者：白春礼[1] 郭仪[1] 樊天申 商广义[1] 戴长春[1] 沈德芳[2] 

机构地区：[1]中国科学院化学研究所,北京100080 [2]中国科学院上海冶金所,上海200050

出　　处：《电子显微学报》1996年第1期75-80,共6页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家自然科学基金委员会;中国科学院资助课题

摘　　要：本文报告了自行研制的弹道电子发射显微镜(BEEM)的基本工作原理、结构以及几个关键技术问题。给出了用这台仪器得到的Au/n-Si(100)和Au/n-GaAs(100)样品的BEEM谱、表面形貌像以及界面图像,并对实验结果进行了解释。In this paper a Ballistic Electron Emission Microscope (BEEM) developed in out Lab. was described, with emphasis on the principle of BEEM, key technical problems and application to metal-semiconductor interfaces. The BEEM spectra,surface topography and interface images of Au/Si and Au/GaAs were shown.

关 键 词：弹道 电子发射显微镜 界面 研制 

分 类 号：TN16[电子电信—物理电子学]