专利名称：一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置  

作　　者：贾文峰 

出　　处：《表面技术》2005年第6期21-21,共1页Surface Technology

摘　　要：一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征是真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源：在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。具有真空反应室空间大，设置有加热机构、真空泵组设置在机架外，设置有可升降阳极板，设置气体分流管，在气体管路上设置有电磁阀，气瓶设置在气柜内等特点。

关 键 词：薄膜制备装置 加工工件 纳米陶瓷 专利名称 表层 真空规管 升降机构 射频电源 反应室 阳极板 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业] TB43[化学工程—硅酸盐工业]