强流脉冲离子束制备功能膜研究进展  

Review on Film Deposition by High Intensity Pulsed Ion Beams

作　　者：杨明海[1] 张罡[1] 姚俊[1] 杨曦[2] 

机构地区：[1]沈阳理工大学中俄联合高能束流实验室,沈阳110168 [2]华中科技大学机械科学与工程学院,武汉430074

出　　处：《材料导报》2005年第F11期217-219,共3页Materials Reports

基　　金：国家科技部国际合作项目资助（2004DFA4800）高能束流及等离子体表面改性技术

摘　　要：强流脉冲离子束在离子能量密度达到5J／cm^2的条件下，辐照靶材表面形成二次烧蚀等离子体，可以在基材表面沉积与靶材化学成分一致性良好的膜层。评述了近年强流脉冲离子束沉积功能膜的研究进展，为进一步进行膜层沉积机理和工艺研究提供理论依据。When energy density of high intensity pulsed ion beams（HIPIB）reaches of 5J/cm^2 , ablated plasma plume on target can be obtained by beam irradiation target materials. By means of such high density and high temperature plume, the deposition of films on substrate could be carried out. In this paper, recent researches on film deposition are discussed in order to understand the mechanism and technique of film deposition with HIPIB.

关 键 词：强流脉冲离子束 碳离子加速器 沉积膜层 功能膜 沉积机理 

分 类 号：TQ051.893[化学工程] TL501.5[核科学技术—核技术及应用]