阴离子/非离子表面活性剂复配体系的紫外可见光谱  被引量:2

Study on Ultra-visible Spectrum of a Blend System of Anionic/Nonionic Surfactants

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作  者:卢行芳[1] 匡卫[2] 

机构地区:[1]浙江工贸职业技术学院,浙江温州325003 [2]山东轻工业学院轻化与环境工程学院,山东济南250100

出  处:《西部皮革》2005年第12期29-32,共4页West Leather

基  金:本论文受陕西科技大学自选项目基金资助

摘  要:运用760CRT双光束紫外可见分光光度计对阴离子/非离子表面活性剂(AES/FC8P)复配体系的吸收光谱进行了较详细的研究。结果显示,随着浓度的变化,出现可见光区460nm处吸收峰消失和近紫外区吸收峰转移(350nm邛380nm)的现象;出现这两种现象时所对应的表面活性剂浓度分别位于复配表面活性剂的临界胶束浓度附近。In this paper, Ultra-visible spectrums of a blend system of anionic/nonionic surfactant(AES/FCsP) have been researched critically by 760CRT Ultra-visible scene photometer with pairs of light beam.Results show that,with the concentration changing,the absorptive peak in visible-light area(460 nm)disappeared and the absorptive peak of near ultraviolet area shifted (350 nm→380 nm).Each of concentrations with the above metioned phenomenons is near the two critical micelle concentration(CMC) of blend system respectively.

关 键 词:紫外可见光谱 复配体系 临界胶束浓度 表面活性剂 

分 类 号:TS529.1[轻工技术与工程—皮革化学与工程]

 

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